Indexed by：
Abstract：
本发明涉及一种金/SiO2壳核微结构与二硫化钼复合光学膜的制备方法，利用简单的旋涂成膜工艺技术，在硅基衬底上，以金核作为等离子激元增强中心，以SiO2壳作为隔离层，旋涂形成金/SiO2壳核微结构与二硫化钼复合光学层，再通过有机物旋涂、封装工艺，最终制备出金/SiO2壳核微结构与二硫化钼复合光学薄膜。本发明制备方法新颖，制备工艺简单，其中，利用金/SiO2壳核结构复合纳米微粒在外界电场作用下等离子体激元增强效应，改变其下面二硫化钼薄膜周围电场分布和强度，从而获得很好的表面增强拉曼散射，表现出可靠的重复性和很好的稳定性。同时，这种结构还有很灵敏的侦测能力。
Keyword：
Reprint 's Address：
Email：
Patent Info ：
Type： 发明授权
Patent No.： CN201810061244.9
Filing Date： 2018/1/23
Publication Date： 2019/8/9
Pub. No.： CN108254817B
公开国别： CN
Applicants： 福州大学
Legal Status： 授权
Cited Count：
SCOPUS Cited Count：
ESI Highly Cited Papers on the List： 0 Unfold All
WanFang Cited Count：
Chinese Cited Count：
30 Days PV： 3
Affiliated Colleges：
