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尹灵峰 (尹灵峰.) [1] | 郑兴华 (郑兴华.) [2] (Scholars:郑兴华) | 梁柄亮 (梁柄亮.) [3] | 汤德平 (汤德平.) [4] (Scholars:汤德平) | 黄爱玉 (黄爱玉.) [5]

Indexed by:

CQVIP PKU CSCD

Abstract:

通过Ta掺杂改性钨青铜陶瓷(Sr0.5Ba0.5)1.9Ca0.1NaNb5-xTaxO15(x = 0~0.30),分析了Ta掺杂量对其烧结性能、微观结构及介电性能的影响.陶瓷的烧结温度随x的增大略有提高.当x < 0.10时,陶瓷的tC和弛豫性变化不大;当x≥0.10时,tm(1 kHz)明显降低,从270 ℃(x = 0)降低至231 ℃(x = 0.30).且tm随频率增加向高温移动,弛豫性明显增强.认为Ta掺杂引起其性能变化是由于Ta - O键与Nb - O键键能的差异,导致陶瓷氧八面体中心离子位移量以及A位离子有序程度的变化所致.

Keyword:

介电弛豫 固相反应法 无机非金属材料 钨青铜陶瓷

Community:

  • [ 1 ] [尹灵峰]福州大学
  • [ 2 ] [郑兴华]福州大学
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  • [ 4 ] [汤德平]福州大学
  • [ 5 ] [黄爱玉]福州大学

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Source :

电子元件与材料

ISSN: 1001-2028

CN: 51-1241/TN

Year: 2009

Issue: 4

Volume: 28

Page: 1-3

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