方酸菁是一类光化学性能优异、吸收强度大、光热稳定性好的染料，　许多方酸　菁在近红外区有强烈的荧光发射，在该范围内生物分子自身荧光较弱，可避免背景　干扰而获得较高的分析灵敏度，适用于生物分析，包括免疫分析、DNA　测序等生命　科学的前沿领域[1]，吲哚方酸菁（Ind-SQ）是一种具有强的紫外吸收与强的荧光发　射的方酸菁染料吲哚衍生物，在生物以及离子识别方面得到广泛的应用，但是作　为一种染料同样给环境造成很大的污染，如颜色污染和COD的升高，　Zhao　等[2]　报道了TiO2辅助光降解的方法，电化学降解[3]则鲜有报道。本文通过循环伏安法　（CV）以及方波伏安法（DPV）测定吲哚方酸菁的电化学行为，并用紫外可见光　谱对恒电位电解的产物进行分析，观察了不同的正负电解电位，不同电解时间，　以及O2　与H2O2　对电解的影响，通过紫外可见吸收光谱的变化，分析和推测了吲哚方酸菁在氧化已及还原条件下的电解机理。