目的　阐明纳米二氧化锆暴露对人永生化角质形成细胞Ha　Ca　T组蛋白H3常见修饰位点的影响，探讨组蛋白H3修饰变化的潜在机制，为纳米材料的进一步安全应用提供理论基础。方法　在利用扫描电子显微镜、激光粒度仪、X射线衍射仪等技术对纳米二氧化锆进行详细表征的基础上，通过蛋白质免疫印迹及流式细胞术等方法评价纳米二氧化锆暴露对细胞生存率、细胞内蓄积量以及组蛋白H3修饰等的影响。结果　在分散介质中纳米二氧化锆明显团聚，比表面积减少，二次粒径增大，其短时间内（1　h）即诱导了组蛋白H3第10位丝氨酸的磷酸化、第9及14位赖氨酸的乙酰化、第4及27位赖氨酸的三甲基化修饰水平的升高。进一步分析发现，纳米二氧化锆的细胞内蓄积量及其引起的DNA损伤水平，与纳米二氧化锆诱导的组蛋白H3修饰水平均呈线性相关。结论　纳米二氧化锆暴露后诱导了Ha　Ca　T细胞组蛋白H3常见修饰位点的变化，其细胞内的蓄积是诱导组蛋白H3修饰变化的关键因素之一，且组蛋白H3修饰的调控机制可能涉及DNA损伤修复途径。