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采用中频反应磁控溅射工艺进行氧化铝薄膜的沉积实验,研究了反应气体(O2)含量和溅射功率与薄膜沉积速率的关系,并探讨了氧化铝薄膜制备过程中存在的“迟滞回线”问题.
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漳州师范学院学报：自然科学版
ISSN： 1008-7826
Year： 2004
Issue： 2
Volume： 17
Page： 39-42
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