首先在400C的干燥空气(流量为500sccm)及不同水汽流量(500、1500、3000、4000seem)等条件下分别热氧化铜片获得了系列垂直生长的氧化铜纳米线,随后,采用扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)、X射线衍射(XRD)研究了不同条件下所制备的氧化铜纳米线形貌、结构等性能,并进一步研究了其场发射性能。研究结果表明:水汽对氧化铜纳米线的密度及场发射性能影响较大,在500sccm空气流量条件下,通入水汽(500sccm)条件与未通入水汽条件生长得到的氧化铜纳米线相比,其密度明显增大,场发射性能提升,其开启场强约为3.7V/μm明显低于干燥空气中生长氧化铜纳米线的开启场强(6.5V/μm);此外,制备得到的氧化铜纳米线的场发射性能随着通入水汽量增大出现先升高后降低的趋势,并且,在通入水汽流量为3000sccm时,获得最佳的氧化铜纳米线场发射性能,其开启场强低至1.4V/μm。