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[期刊论文]

邻菲啰啉-H_2O_2-CTMAB-Cu(Ⅱ)化学发光体系的研究及其应用

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author:

陈国南 (陈国南.) [1] (Scholars:陈国南) | 张帆 (张帆.) [2] | 陈肇明 (陈肇明.) [3] | Unfold

Abstract:

本文用改进的单纯形优化法研究了邻菲啰啉-H_2O_2-CTMAB-Cu(Ⅱ)化学发光体系的最佳反应条件,较为详细地研究了该化学发光反应的机理,较为合理地解释了表面活性剂在该体系中的作用。同时选择适当的掩蔽剂,大大提高了反应的选择性。据此拟定了新的化学发光测定痕量铜的方法,经试用于天然水的分析获得较为满意的结果。本法的检测限达0.09ppb,水样测试的精密度良好,回收率91.4-108.0%,与石墨炉原子吸收法测定的结果甚为一致。

Keyword:

CTMAB H_2O_2-CTMAB-Cu 化学发光反应 单纯形优化法 发光强度 敏化作用 活性剂

Community:

  • [ 1 ] 福州大学化学系
  • [ 2 ] 福州大学化学系 福州
  • [ 3 ] 福州

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Source :

化学学报

ISSN: 0567-7351

CN: 31-1320/O6

Year: 1987

Issue: 02

Page: 139-144

1 . 7 0 0

JCR@2023

Cited Count:

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30 Days PV: 4

Online/Total:112/10104821
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