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本文报道了盐酸羟胺-CTMAB-Cu(Ⅱ)新的化学发光体系,建立了测定痕量Cu的新方法,检测限5.6ppb,方法简便,试剂易得,重现性和选择性均较好。
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分析化学
ISSN： 0253-3820
CN： 22-1125/O6
Year： 1991
Issue： 09
Page： 1027-1029
1 . 2 0 0
JCR@2023
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