本文采用铸造合金靶材和离子束溅射　(IBS)技术制备TbDy　Fe超磁致伸缩薄膜　(GMFs)　,研究了不同溅射方位　(α角　)对冷基片成膜过程和薄膜性质的影响。结果表明　,在给定的溅射角范围内　,薄膜表面平整光滑　,组织致密　,膜厚均匀且与基片结合良好　,膜的结构均为非晶态　;成膜生长速率、膜层成份以及λ值随α角的改变均呈现规律性的变化　,当α角为α6左右时　,沉积速率最大　;在α角为α5左右范围内　,膜层的成份最接近于靶材成份　;α角在α4附近时用Tam法试验测定在Hmax=0　　5　7T下的磁伸值λ∥　可达　970×　10　-6,在中低场强H　=0　　2　5T下　,λ∥　值达到　710×...