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本文研究了轧制青铜试片的取向对离子束溅射(IBS)制备的TbDy-Fe超磁致伸缩膜(GMF)应力及磁致伸缩性能的影响.结果表明,溅射沉积在沿垂直轧制方向截取的试片上沉积膜的应力小于沿平行轧向截取的试片上沉积膜的应力,从而对薄膜的磁致伸缩性能产生相应的影响.
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真空科学与技术学报
ISSN： 1672-7126
CN： 11-5177/TB
Year： 2005
Issue： 4
Volume： 25
Page： 268-270,274
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