Gas　separation　membranes　were　fabricated　with　varying　trimethylmethoxysilane　(TMMOS)/tetraethoxy　orthosilicate　(TEOS)　ratios　by　a　chemical　vapor　deposition　(CVD)　method　at　650　°C　and　atmospheric　pressure.　The　membrane　had　a　high　H2　permeance　of　8.3　×　10-7　mol　m-2　s-1　Pa-1　with　H2/CH4　selectivity　of　140　and　H2/C2H6　selectivity　of　180　at　300　°C.　Fourier　transform　infrared　(FTIR)　measurements　indicated　existence　of　methyl　groups　at　high　preparation　temperature　(650　°C),　which　led　to　a　higher　hydrothermal　stability　of　the　TMMOS-derived　membranes　than　of　a　pure　TEOS-derived　membrane.　Temperature-dependence　measurements　of　the　permeance　of　various　gas　species　were　used　to　establish　a　permeation　mechanism.　It　was　found　that　smaller　species　(He,　H2,　and　Ne)　followed　a　solid-state　diffusion　model　while　larger　species　(N2,　CO2,　and　CH4)　followed　a　gas　translational　diffusion　model.　©　2019　by　the　authors.