Abstract：
本文在超高真空体系中制备了干净的Cu(100)表面和O-(2√2×√2)R45℃u(100)表面,以研究表面氧对甲烷解离活化的影响.使用俄歇电子能谱、低能电子衍射、红外反射吸收光谱、扫描隧道显微镜、程序升温脱附(四极质谱仪)等表征手段,探究甲烷在这两种表面上的吸附活性.结果发现只有在氧预覆盖的Cu(100)表面上观察到了甲烷的解离吸附,而在清洁表面上则没有观察到,这表明表面氧促进了甲烷C-H键的活化解离.这项研究可为高效、低能耗地将甲烷转化为其他高附加值产品提供参考.
Keyword：
Reprint 's Address：
Email：
Source ：
化学物理学报（英文版）
ISSN： 1674-0068
Year： 2024
Issue： 5
Volume： 37
Page： 627-631
1 . 2 0 0
JCR@2023
Cited Count：
SCOPUS Cited Count：
ESI Highly Cited Papers on the List： 0 Unfold All
WanFang Cited Count：
Chinese Cited Count：
30 Days PV： 0
Affiliated Colleges：
