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本发明属于光动力药物或光敏剂制备领域，公开了含哌嗪乙氧基修饰基团的酞菁金属配合物的应用，可用于制备光动力药物或光敏药剂，本发明所述酞菁金属配合物具有以下特点：两亲性, 吸收光谱红移至更加有利于穿透人体组织的波长处，光敏产生活性氧的能力高。
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Type： 发明授权
Patent No.： CN201210176671.4
Filing Date： 2012/6/1
Publication Date： 2014/9/10
Pub. No.： CN102702210B
公开国别： CN
Applicants： 福州大学
Legal Status： 授权
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