表面羟基是T　iO2表面性质的一个重要组成部分,是　T　iO2光催化活性的一个重要影响因素。在光催化反应过程中,T　iO2的表面羟基不仅能够与光生空穴反应生成羟基自由基(O　H·),而且还可能成为有机物的吸附中心而改变反应物的吸附形态并影响反应物分子的催化反应,因此,研究T　iO2的表面羟基有助于更深刻理解光催化反应机理。本工作以金红石T　iO2为研究对象,在自制的原位红外测试系统中探测了样品在经过不同温度真空处理后,样品表面羟基的数量、种类和分布的变化;以甲苯为反应探针分子,采用原位FTIR技术研究了不同表面羟基对甲苯的吸附作用和光催化反应性能。结果表明,金红石　TiO2表面含两种热稳定性不同的羟基,一类是在高温下保持相对稳定的孤立羟基,其红外吸收波数在3724,3700,3652　cm　-1,其中3652　cm　-1的吸收强度最大;另一类是热稳定性较差的氢键羟基,其红外吸收波数在3648,3610,3413,3362　cm　-1,这些羟基在热处理温度为250℃时几乎消失。在吸附甲苯的过程中,只有吸收波数在3648,3610和3652　cm-1的羟基强度减小,是甲苯的吸附中心,而其余羟基几乎不变。