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张国成 (张国成.) [1] | 陈惠鹏 (陈惠鹏.) [2] | 郭太良 (郭太良.) [3]

Indexed by:

CQVIP PKU CSCD

Abstract:

通过对OTFT绝缘层SiO2表面分别采用十八烷基三氯硅烷(OTS)处理和原子层沉积薄层氧化铝的修饰方式,制备了喷墨打印有机薄膜晶体管并研究了修饰前后绝缘层的表面形貌、接触角及有源层的物相结构。虽然绝缘层的表面形貌在修饰前后变化不大,但是表面接触角和打印后有源层的物相结构有较大差别。OTS处理和沉积氧化铝修饰后,器件的迁移率比修饰前分别增大了4倍和9倍,而开关比则分别增大了1个和4个数量级。修饰后的最大迁移率可达0.35 cm2/(V·s),开关比可达6.0×106。

Keyword:

原子层沉积 喷墨打印 有机薄膜晶体管 表面修饰

Community:

  • [ 1 ] 福州大学平板显示技术国家地方联合工程实验室,福建福州350102
  • [ 2 ] 福建工程学院信息科学与工程学院,福建福州350108

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Source :

发光学报

ISSN: 1000-7032

Year: 2017

Issue: 2

Volume: 38

Page: 194-200

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