采用离子束溅射沉积(IBSD)技术和铸造合金靶材,以水冷方式在金属材料(锡青铜)衬底上溅射制备　Sm-Fe　GMFs,通过　SEM、XRD、VSM　等测试手段分析　Sm-Fe　GMFs　薄膜的表、断面形貌、成分、组织结构和磁性能；采用基片曲率显微观测法及　DWS　超精密位移测量仪测量并计算薄膜应力和磁致伸缩系数；通过真空热处理等手段改变薄膜的结构,达到改善薄膜软磁性能、提高薄膜低场磁敏性。结果表明：在设定的工艺条件下,采用　IBSD　法可获得表面平整光滑、膜层组织均匀致密、与衬底结合优异且成份接近靶材的非晶态　Sm-Fe　GMFs,膜层未出现择优生长取向,没有明显的柱状微结构形成,有利于薄膜的...