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＜正＞材料的表面性质如表面缺陷、表面修饰,尤其是所暴露的晶面对于材料的物理化学性质有着重要的影响。最近的研究表明,半导体光催化剂的催化活性对于表面暴露的晶面非常敏感,控制制备具有高反应活性晶面的光催化剂成为光催化研究新的热点。Bi_2WO_6是[Bi_2O_2]_2+层与[WO_4】_(2-)层交替组成层状结构的光催化剂,在可见光激发下可以光解水、降解有机物和光催化抗菌。已报道的(001)晶面暴露的Bi_2WO_6光催化剂,从其元素分析表明表面
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Year： 2012
Language： Chinese
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