Abstract：
＜正＞缺陷普遍存在于光催化剂材料中,但人们对于缺陷对光催化过程的影响仍不十分清楚[1-2]。此外,缺陷作为一种有效调控光催化剂性能的方法受到广泛的关注[3],但缺陷大多为亚稳态,如何稳定缺陷从而利用其对光催化反应的促进作用也是需要解决的问题[4]。在本研究中,我们选择仅在催化剂表面处产生缺陷的低温等离子体技术(CPT),结合浸渍-提拉法,以氧化锌(ZnO)为基底,成功的在石英片上制得不同位
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Year： 2013
Language： Chinese
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