Abstract：
本文采用ＭｏｎｔｅＣａｒｌｏ（ＭＣ）方法对Ｓ－枪溅射ＮｉＣｒ薄膜过程进行了计算模拟，得到了沉积粒子在基片上的厚度分布，讨论了不同沉积参数对薄膜厚度分布的影响。
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真空电子技术
Year： 1998
Issue： 02
Page： 11-14
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