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应用Jade7.0和MAUD软件对523℃和628℃热处理4、6h的NiCrBSi涂层X射线衍射图谱进行Rietveld全谱拟合定量分析。结果表明:两种软件拟合结果的Rwp值都在8%～11%,两者定量分析的结果相差不大。Rietveld定量分析结果表明,涂层中的γ-Ni相随热处理温度和热处理时间的增加而增加,揭示了涂层显微硬度值下降的原因。
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热加工工艺
Year： 2009
Issue： 06
Volume： 38
Page： 88-90
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