Abstract：
采用真空热蒸发法结合退火工艺制备得到质量较好的多晶Sb_2Se_3薄膜,薄膜致密、结晶性良好,且表现出一定的择优生长现象,其禁带宽度大致在1.4 eV左右。探索了不同退火温度对Sb_2Se_3薄膜物相结构、形貌与光电性能的影响,在此基础上制备了FTO/CdS/Sb_2Se_3/AL结构的电池,效率为0.047%.
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科技与创新
Year： 2018
Issue： 05
Page： 72-73
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