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采用PECVD法和磁控溅射法在40?Cr钢基片上分别沉积氮化硅薄膜和NiCr合金膜，用钠光平面干涉法测量双层薄膜的内应力，并具体分析该双层薄膜的内应力与薄膜厚度及系统之间的关系.
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福州大学学报(自然科学版)
ISSN： 1000-2243
CN： 35-1337/N
Year： 2001
Issue： 1
Volume： 29
Page： 20-21，19
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