Abstract：
材料的表面性质如表面缺陷、表面修饰，尤其是所暴露的晶面对于材料的物理化学性质有着重要的影响。最近的研究表明，半导体光催化剂的催化活性对于表面暴露的晶面非常敏感，控制制备具有高反应活性晶面的光催化剂成为光催化研究新的热点。Bi2WO6是[Bi2O2]2+层与[WO4]2-层交替组成层状结构的光催化剂，在可见光激发下可以光解水、降解有机物和光催化抗菌。已报道的(001)晶面暴露的Bi2WO6光催化剂，从其元素分析表明表面暴露的主要是[WO4]层。本文用水热法，通过CTAB调控，制备出(001)晶面[BiO]层暴露的Bi2WO6并且研究了其光催化性能和光催化降解机理。
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Year： 2012
Page： 230-231
Language： Chinese
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