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采用机械研磨法制备地开石-醋酸铯插层复合物,利用TG-DTA,FTIR,XRD和FESEM表征并分析该插层复合物的形成过程.XRD结果显示地开石的层间距d(002)由0.72nm增至1.42nm,表明醋酸铯已成功进入地开石层间;FTIR谱显示新增3603cm-1峰表明醋酸根离子与地开石内表面羟基形成氢键,新增3548cm-1峰表明有部分水进入地开石层间;TG-DTA结果分析表明,插层复合物在110℃以下可以稳定存在,脱羟基温度降低180℃;FESEM研究表明:地开石骨架清晰,插层后形貌未发生大的变化.结合理论计算,推断水与醋酸铯分子一起进入地开石层间,与地开石内表面羟基相结合,并建立醋酸铯插层地开石的机理模型.
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材料工程
ISSN： 1001-4381
CN： 11-1800/TB
Year： 2018
Issue： 7
Volume： 46
Page： 76-82
0 . 6 0 0
JCR@2023
Cited Count：
WoS CC Cited Count： 0
SCOPUS Cited Count： 1
ESI Highly Cited Papers on the List： 0 Unfold All
WanFang Cited Count： -1
Chinese Cited Count：
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