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基于在NaOH介质中,强力霉素对Luminol-KMnO4体系发光反应具有强烈的抑制作用,建立起流动注射抑制化学发光测定痕量强力霉素的新方法。强力霉素在0.005~5.0μg·mL^-1浓度范围内,采用不同的KMnO4溶液浓度,分段建立起抑制化学发光强度与其浓度间良好的线性关系,方法的检出限为2.0×10^-3μg·mL^-1。该方法可用于药片中强力霉素含量的测定。
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光谱学与光谱分析
ISSN： 1000-0593
Year： 2004
Issue： 1
Volume： 24
Page： 15-17
0 . 3 5
JCR@2004
0 . 7 0 0
JCR@2023
JCR Journal Grade：4
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